據(jù)媒體報道，當?shù)貢r間4月30日，歐洲首個尖端半導體工廠在英國南安普頓大學正式投入運營。該工廠配備了全球第二臺、歐洲首臺的新型電子束光刻設備，將利用先進的電子束技術制造下一代半導體。
電子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）是一種基于電子束直寫或投影的納米級圖形加工技術，其核心特點在于突破光學衍射極限，能夠實現(xiàn)亞10納米級的超高精度加工。通過聚焦電子束，該技術可在材料表面刻畫出比人類頭發(fā)細數(shù)千倍的微小特征，分辨率遠超傳統(tǒng)光刻技術。此外，電子束光刻無需依賴掩膜即可直接進行圖案化處理，特別適合研發(fā)、原型設計以及小批量生產(chǎn)。
這項技術在先進半導體制造中發(fā)揮著重要作用，尤其是在高精度圖形加工領域。例如，它可用于制作光學掩模版、微納加工器件，同時也廣泛應用于科研與教育領域，助力高精度圖形的制作與研究。
英國科學大臣Patrick Vallance表示，南安普頓大學的新電子束設施將顯著提升該國在半導體領域的研發(fā)和制造能力，為技術創(chuàng)新提供強有力的支持。

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