據外媒Tom’s Hardware報道，英偉達CEO黃仁勛在GTC 2025大會訪談中提到，下一代GPU可能通過環(huán)繞柵極（GAA）晶體管技術實現約20%的性能提升。這款GPU預計為2028年推出的Feynman架構。
黃仁勛在訪談中提到，隨著摩爾定律的放緩，新制程技術在密度、功率和能效方面的改進空間有限，因此制程節(jié)點的變化已不再是決定性因素。他強調，管理大量GPU的效率比單個GPU的原始性能更加重要，特別是在人工智能系統(tǒng)規(guī)模不斷擴大的背景下。
英偉達通常不會率先采用臺積電的最新制程節(jié)點，而是選擇次新一代的尖端技術。例如，目前英偉達的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell架構GPU基于臺積電的4nm制程，該制程是5nm節(jié)點的改良版。其下一代RuBin架構預計將采用臺積電3nm制程，可能是N3P或定制版本。
至于Feynman架構，英偉達可能會使用臺積電的N2制程技術，或者其改進版N2P。臺積電N2制程預計比N3E性能提升10%-15%，而A16節(jié)點制程則計劃在2027年投產，具備背面供電功能，性能比N2提升8%-10%。
如果Feynman GPU采用N2P或A16制程，其每瓦性能預計將比基于N3P的RuBin GPU提升20%。不過，面對AI計算的高需求，英偉達似乎更注重性能的最大化，而非單純追求能耗優(yōu)化。

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