Nvidia首席執(zhí)行官黃仁勛在近期GTC問答環(huán)節(jié)中提到，下一代工藝技術(shù)可能會為公司GPU帶來20%的性能提升。這一改進主要得益于全柵極（GAA）晶體管的應(yīng)用。然而，他同時強調(diào)，Nvidia GPU性能的顯著提升更多依賴于架構(gòu)和軟件創(chuàng)新，而非單純依賴工藝節(jié)點的進步。
據(jù)黃仁勛透露，Nvidia未來的產(chǎn)品（如預(yù)計2028年推出的Feynman GPU）可能會采用基于GAA晶體管的工藝技術(shù)，從而帶來20%的性能提升。不過，他淡化了工藝節(jié)點變化的重要性，指出摩爾定律的放緩使得全新工藝技術(shù)僅能帶來約20%的改進，包括密度、功耗和效率方面的優(yōu)化。這一表態(tài)是在回應(yīng)分析師關(guān)于Nvidia是否會采用三星代工廠技術(shù)的提問。
黃仁勛還表示，盡管尖端工藝技術(shù)帶來的提升令人歡迎，但它們已不再具有變革性。隨著AI系統(tǒng)的擴展，管理大量處理器的效率變得比單個處理器的原始性能更為重要。他指出，數(shù)據(jù)中心更關(guān)注每瓦性能，而非單純追求“物理極限”。
與蘋果不同，Nvidia通常不會率先采用臺積電的最新工藝技術(shù)，而是選擇使用成熟的技術(shù)。例如，Nvidia的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell GPU均基于臺積電4nm級工藝的定制版本（4N和4NP）。這些技術(shù)屬于臺積電5nm級工藝開發(fā)套件的改進版本。
下一代AI GPU（代號Rubin，搭配定制Vera CPU）預(yù)計將于明年推出，并可能采用臺積電3nm級制造工藝（如N3P或定制版本3NP）。而Feynman GPU預(yù)計將在2028年推出，可能會采用基于GAA的工藝技術(shù)。臺積電的N2工藝技術(shù)預(yù)計可使性能提升10%至15%，而N2P和A16等技術(shù)則有望進一步優(yōu)化性能、降低電阻并改善電力輸送。
黃仁勛還預(yù)測，如果Nvidia在2028年采用N2P或A16工藝，其Feynman GPU的每瓦性能將比Rubin GPU提升20%。不過，他也提到，由于當(dāng)前對AI計算需求巨大，Nvidia有時更傾向于追求最高性能而非最高效率。
此外，黃仁勛多次強調(diào)，Nvidia已不再僅僅是一家半導(dǎo)體公司，而是大型AI基礎(chǔ)設(shè)施的提供商和算法開發(fā)的領(lǐng)導(dǎo)者。他表示，公司專注于構(gòu)建AI基礎(chǔ)設(shè)施，并為機器人技術(shù)、計算光刻等領(lǐng)域開發(fā)基于物理的AI模型。

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